工艺温度可高达2000℃，低惯量钨加热元件，带有分子泵的高真空系统，石墨烯和碳化硅的相关应用。Zenith是一种高温RTP系统，可以在2000°C下运行一小时。Zenith-150系统可以在2000°C的温度下处理直径达6英寸的样品。它是专门为满足大学研究实验室的要求而开发的。

该系统有一个不锈钢水冷室。冷壁室技术提供了显著的优势:高工艺再现性、低记忆效应、更高的冷却速率。高温钨加热器提供了增强的温度均匀性。该系统与氧化性环境不兼容，必须安装涡轮泵。高温计和热电偶温度测量都是标准功能。快速数字PID温度控制器提供高且稳定的温度可重复性(士1°C)。该系统确保在整个温度范围内进行精确且可重复的热控制。设计的工艺室提供了基板的简单装载和卸载以及热电偶的安装。基板尺寸直径不超过150mm(6英寸)。